案例詳情

化學機械拋光液（CMP）是近年來處于前端的研磨拋光方式，大致有二氧化硅拋光液，氧化鈰拋光液，氧化鋁拋光液等等常見材料。當金屬材料拋光至鏡面效果時，拋光液在物理和化學同時作用下，在基材上面形成頑固的固體殘留物。尤其是使用納米二氧化硅（硅溶膠）拋光過的鋁合金高光鏡面，在拋光液干涸在基材表面，已經是業界頭等清洗難題。遠岸金屬清洗劑，用水性分散原理，解決行業拋光液殘留的棘手問題。

通過自動化超聲波設備，加上遠岸拋光液殘留水性清洗劑，在不腐蝕材料的基礎上，最高效率的批量化清洗鏡面材料上的殘留拋光液

很多研磨拋光加工單位，使用一下不佳的清洗劑，要不是清洗不了拋光液殘留物，就是能清洗干凈，但金屬（鋁合金）高光鏡面效果被破壞，在沒有更合適的辦法下，停留在手工清洗高光鏡面加工件，效率低下，對員工身體，環境都不利，無法實現現代化生產要求。

4，清洗速度快，高光鏡面效果保護性好

五 、推薦使用   遠岸金屬清洗劑  拋光液殘留清洗劑1257 6004

六、細則